เคลือบเพื่อปรับปรุงเทคโนโลยีเครื่องมือสำคัญ

เทคโนโลยีการเคลือบเครื่องมือได้มีความคืบหน้าในปี เคลือบสารเคมี (CVD) ยังคง แทรกสามารถจัดทำดัชนีกระบวนการเคลือบที่สำคัญ มีพัฒนาเป็น CVD อุณหภูมิปานกลาง Al2O3 เปลี่ยนชั้นของฟิล์มหนา และ เทคโนโลยีใหม่อื่น ๆ อิงแก้ไขพื้นผิว เคลือบผิว CVD สำหรับความต้านทานการสึกหรอเพิ่มขึ้นและความแข็งแกร่ง เจริญก้าวหน้าทำยังเคลือบเพชร CVD ผิวเคลือบ และป้อนขั้นตอนปฏิบัติต่าง ๆ ปัจจุบัน สัดส่วนต่างของคาร์ไบด์ซีเมนต์เคลือบสามารถจัดทำดัชนีได้มีจำนวนมากกว่า 70% นี้ระหว่าง กายภาพเคลือบ (PVD) ความคืบหน้าเป็นที่โดด เด่น ในเคลือบเตาโครงสร้าง และทำกระบวนการ เทคโนโลยีและกระบวนการควบคุม ด้านมีความคืบหน้าใหม่ มีการพัฒนาไม่เพียงแต่ใช้ยู ตัดความเร็วสูง และตัดแห้ง และตัดยากเพศเคลือบ (เป็นซุปเปอร์ TiAlN) และรวมความร้อนสูง ได้ดีขึ้น TiAlCN ทั่วไปเคลือบและ DLC และรถจักรยานยนต์ลดลง W/C เคลือบ ผ่านโครงสร้างเคลือบของนวัตกรรม พัฒนานาโน และมีโครงสร้างหลายชั้น ปรับปรุงความแข็งสีและความเหนียว